Candela 8520

Candela 8520

Candela 8520第二代集成式光致发光(PL)和表面缺陷检测系统专为SiC和GaN衬底和外延晶圆缺陷进行高级表征而设计。使用统计工艺控制(SPC)方法的自动化晶圆检测可显降低因衬底和外延缺陷而导致的良率损失,最大限度地减少金属有机化学气相沉积(MOCVD)反应设备的工艺偏差,并增加MOCVD反应设备的正常运行时间。

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