금속 박막 균일성

금속 박막의 면저항 균일성은 소자 성능을 보장하는 데 매우 중요하며, 대부분의 금속 박막은 4PP 및 EC 모두로 측정할 수 있습니다. EC는 두꺼운 전도성이 높은 금속 박막에 권장되며, 4PP는 얇은 금속 박막( > 10Ω/sq)에 권장되지만 4PP/EC 상관 관계가 매우 높으면 두 가지 방법 중 하나를 사용해도 정확한 결과가 나옵니다.

R50 저항률 맵은 박막 균일성, 증착 품질 및 기타 공정 변화를 강조합니다. 이 2μm AlCu 박막 EC 지도는 오프 센터 증착을 식별하고 정량화합니다.

이온 주입 특성화

4PP는 이온 주입 공정을 측정하는 표준 기술입니다. 열 어닐링 후 이온 주입을 매핑하면 램프 고장, 웨이퍼/플래튼 접촉 불량, 또는 주입 선량 변화로 인한 핫 지점 및 콜드 지점을 식별할 수 있습니다. 이온 주입 실리콘층의 경우 도펀트 이온을 활성화시키기 위해 열 어닐링이 필요합니다.

왼쪽 예에서 빨간색(고저항) 반점 3개는 3개의 웨이퍼 지지대로 인해 이온 주입(오른쪽 예) 어닐링 중에 열 손실이 가장 큰 위치를 나타냅니다. 온도 균일성은 어닐링 공정에 매우 중요하며, 웨이퍼 에지와 접합전도층의 열 손실은 활성화 균일성에 심각한 문제가 될 수 있습니다. 일반적으로 빛에 민감한 샘플의 경우 Filmetrics R54-Series 밀폐형 시트 저항 매퍼를 권장합니다.

박막 두께/저항률/면저항

측정된 웨이퍼 데이터는 면저항, 박막 두께 또는 저항으로 매핑될 수 있습니다. 소재에 대한 저항률 값을 입력하면 두께를 계산하고 표시할 수 있으며, 두께 값을 입력하면 면저항을 계산할 수 있습니다.

데이터 수집 및 시각화

RsMapper는 데이터 수집 및 분석 기능을 단일 플랫폼에 결합한 R50 직관적인 사용자 인터페이스로, 이 플랫폼을 도구 자체에서 또는 오프라인 분석에 사용됩니다. 다양한 좌표 레이아웃을 사용하여 측정 현장에 대한 데이터 수집을 쉽게 지정할 수 있습니다.

RsMapper 플랫폼은 왼쪽에 표시된 이온 빔 스캐닝 문제에 대한 예와 같이 중요한 막 균일성 데이터를 신속하게 시각화하기 위해 측정 결과를 2D 또는 3D로 표시할 수 있습니다. 이 소프트웨어는 개별 측정 매개변수의 지도와 회전 가능한 3D 프로파일 사이를 쉽게 전환하여 공정 매개변수의 사용자 지정 뷰를 제공합니다. RsMapper는 면저항, 저항, 금속 박막 두께를 측정하는 모든 측정에 대해 매력적인 시각적 데이터를 제공합니다.