웨이퍼 공정 모니터링 및 제어, 출고 웨이퍼 품질 관리
계측
KLA의 웨이퍼 기하학 시스템은 정밀하게 제어되는 웨이퍼 모양 지형학을 통해 웨이퍼 모양이 매우 평평하고 두께가 균일하도록 보장합니다. 이 웨이퍼 계측 시스템은 다양한 웨이퍼 크기에 걸쳐 연마 및 에피택셜 실리콘, SiC, GaN, GaAs, 사파이어 및 기타 기판을 검증하여 웨이퍼 제조업체를 지원합니다. 두께, 평탄도, 구불어짐/휘어짐, 양면 나노 지형학, 응력 및 고해상도 측면 경사에 대한 중요한 데이터를 제공함으로써 당사의 웨이퍼 기하학 시스템은 제조 공정을 최적화할 수 있도록 지원하며, 고품질 기판의 일관된 대량 생산을 지원합니다.
WaferSight™
가공 전 웨이퍼 지오메트리 계측 시스템
WaferSight™ 2+ 가공 전 웨이퍼 지오메트리 계측 시스템은 웨이퍼 제조 업체의 광택 웨이퍼 및 에피택셜 실리콘 웨이퍼와 가공 기판 및 기타 고급 기판을 검증합니다. WaferSight 2+는 웨이퍼 평탄도, 양면 나노 지형학, 고해상도 에지 롤오프 데이터를 생성함으로써, 웨이퍼 제조 업체가 최고 품질 기판의 대량 생산을 보장할 수 있도록 하는 데이터를 생성합니다.
MicroSense® 웨이퍼 시리즈
베어 웨이퍼 형상 계측 시스템
MicroSense® 베어 웨이퍼 형상 계측 시스템은 웨이퍼 제조업체가 다양한 재료, 크기 및 모양에 걸쳐 기판을 검증하는 데 사용됩니다. 마이크로센스 시스템은 특허를 획득한 비접촉식 센서 기술을 사용하여 높은 처리량으로 정확하고 정확한 자동 형상 측정을 생성합니다. 이 시스템은 반도체 표준 메트릭과 두께, 평탄도 및 모양(활/워프)의 전체 웨이퍼 맵을 생성하여 웨이퍼 제조업체가 공정을 검증하고 최적화하여 고품질 기판의 대량 생산을 보장합니다.
웨이퍼 공정 모니터링 및 제어, 출고 웨이퍼 품질 관리(OQC), 칩 제조업체를 위한 입고 품질 관리(IQC).
MicroSense® C200L
- 기판 유형 : 광택 및 에피택시 150mm / 200mm 실리콘 웨이퍼
- 기술: 특허받은 듀얼 사이드, 나노미터 해상도의 비접촉식 정전 용량 센서
- 측정: 2차원 및 3차원 웨이퍼 맵을 생성하는 직접, 고해상도, 고밀도 측정(>180,000 데이터 포인트/200mm 웨이퍼).
- 출력 메트릭: 두께, 총 두께 변화, 전체 웨이퍼, 사이트 및 엣지 사이트, 활/워프, 웨이퍼 P/N 유형 및 저항.
- 구성: 유연한 웨이퍼 선별 옵션을 위한 5개의 카세트
MicroSense® C200M
- 기판: 매우 평평한 광택 및 에피택시 150mm/200mm 실리콘 웨이퍼
- 기술: 나노미터 해상도를 갖춘 특허받은 듀얼 및 비접촉식 고정밀 정전 용량 센서. 마이크로센스 C200L에 비해 개선된 정확도, 반복성 및 처리량.
- 측정: 2차원 및 3차원 웨이퍼 맵을 생성하는 직접, 고해상도, 고밀도 측정(데이터 포인트 230,000 초과/200mm 웨이퍼).
- 출력 메트릭: 두께 측정, 총 두께 변동, 평탄도 측정(전체 웨이퍼, 사이트 및 엣지 사이트), 보우/워프, 웨이퍼 P/N 유형 및 저항, 엣지 롤 오프 메트릭 패키지.
- 구성: 유연한 웨이퍼 선별 옵션을 위한 5개의 카세트
MicroSense® C200-CSW1
- 기판: 공정 중, 광택 및 에피택셜 150mm / 200mm 실리콘, SiC, GaN, GaAs, 사파이어 및 기타 기판. 패턴 웨이퍼 계측 및 2차원 응력 측정과 IC 제조업체의 사전 사후 증착 공정 분석.
- 기술: 나노미터 해상도의 특허 받은 듀얼 및 비접촉식 정전 용량 센서가 장착된 XY 스캔 패턴 스테이지.
- 출력 메트릭: 고밀도 2D 및 3D 맵의 두께, 총 두께 변동, 사이트 평탄도, 가장자리 사이트 평탄도, 형상(활/뒤틀림) 및 2D 응력.
- 구성: 150mm 및 200mm 웨이퍼를 동시에 수용할 수 있는 두 개의 카세트가 있는 브리지 도구
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