공정 개발, 공정 검증, 공정 설비 모니터링, 공정 설비 검증, 챔버 일치, 공정 설비 일치
공정 중 공정 관리
KLA의 포괄적인 SensArray® 제품 포트폴리오를 통해 공정 설비의 환경과 웨이퍼 조작 조건을 공정 중 모니터링할 수 있습니다. 유선 및 무선 센서 웨이퍼, 자동화 패키지 및 데이터 분석 시스템을 갖춘 SensArray 제품은 웨이퍼 온도를 포함하여 광범위한 웨이퍼 공정에 대한 포괄적인 정보를 제공합니다. 또한 웨이퍼 조작 및 회전 받침대에 대한 특성화를 지원합니다. 반도체 웨이퍼 제조업체는 SensArray 데이터를 사용하여 공정 및 웨이퍼 조작 상태를 시각화, 진단 및 제어합니다.
SensArray® Automation
현장 온도 측정 자동화 패키지
SensArray® Automation 패키지는 공정 설비 챔버의 온도 측정 자료를 자동으로 빠르게 수집하는 동시에 반도체공장 시운전을 지원하는 반자동 기능도 제공합니다. SensArray Automation 패키지에는 모든 300mm 무선 SensArray 제품과 호환되는 AS1000 자동화 기지 장치, 오버헤드 트랙 (OHT) 호환 FOUP, 시스템 자동화 컨트롤러 및 사무용 PC 소프트웨어 사용권한 사용 갯수 구성 요소가 포함되어 있습니다. SensArray FOUP는 유연하게 반도체공장에 적용하기 위해 두 개의 개별 SensArray 제품을 지원할 수 있으며, SPC 차트로 직접 데이터 전달을 통해 다른 생산 FOUP와 동일한 방식으로 처리될 수 있습니다. SensArray Automation는 생산성 향상을 통해 공정 설비의 가용성, 엔지니어링 자원의 보다 효율적인 사용, 반도체공장의 MES 데이터베이스에 있는 중앙 집중식 자료 저장을 향상시킵니다.
Smartwafer™
웨이퍼 취급 모니터
Smartwafer2™ 취급 모니터는 공정 장비를 통해 작동하며 경로를 따라 진동 및 가속도를 기록합니다. 기록 과정을 완료한 후 자료는 외부 판독소를 통해 PC로 다운로드됩니다. 자료는 장비에서 일어나는 동작의 순서와 동기화되며 과거의 양호한 특징과 비교하게 됩니다. 비정상적인 신호는 웨이퍼에 입자, 결함 또는 스크래치를 유발할 수 있는 잘못된 기계적 구성 요소 또는 정렬을 나타내고 정확한 위치를 알려줍니다. 표준 300mm 실리콘 웨이퍼는 표준 공정 웨이퍼의 동작과 밀접하게 일치하기 위해 사용되어 웨이퍼 취급 시스템을 통해 동일한 기계적 레시피를 실행할 수 있습니다. 전자 회로는 실리콘 접착제로 등각으로 코팅되어 Smartwafer2를 보호 및 방수합니다. Automation Loadport는 300mm 자동화된 반도체 공장 용으로 설계되었으며 다른 일상적으로 진행되는 모니터와 마찬가지로 생산 방식으로 Smartwafer2를 사용할 수 있습니다. Automation Loadport는 AMHS/OHV 및 호스트 연결에 필요한 E84 및 기타 SEMI 표준을 비롯한 모든 SEMI 표준을 충족합니다.
공정 공구 검증, 공정 공구 모니터링, 공정 공구 일치
EWG Wafer™
웨이퍼 취급 모니터
EWG Wafer™ 취급 모니터는 회전 받침대에서 웨이퍼의 편심도와 흔들림을 측정합니다. 이는 이러한 측정을 하는 유일한 공정 중 방법입니다. 현재 이러한 변수를 확인하기 위해 사용되는 일반적인 방법은 설비 챔버를 열고 기계적인 측정기를 사용하는 시간이 많이 걸리는 과정을 포함합니다. 웨이퍼 중앙에 XY 가속도계 1개가 배치되고 웨이퍼 가장자리에 가까운 6개 지점에 Z 가속도계가 배치되면 EWG Wafer는 설비 개방을 방지하고 호환되는 Automation Loadport를 사용하여 완전히 자동화될 수 있습니다. Automation Loadport는 300mm 자동화된 반도체 공장 용으로 설계되었으며 다른 일상적으로 하는 모니터와 마찬가지로 생산 방식으로 EWG Wafer를 사용할 수 있습니다. Automation Loadport는 AMHS/OHV 및 호스트 연결에 필요한 E84 및 기타 SEMI 표준을 비롯한 모든 SEMI 표준을 충족합니다.
공정 공구 검증, 공정 공구 모니터링, 공정 공구 일치
RH Wafer™
웨이퍼 취급 모니터
RH Wafer™ 취급 모니터는 공정 설비 전체를 이동하며 여러 위치에서 상대 습도를 측정합니다. 상대 습도 센서 및 Smartwafer2™ 유형 회로는 정화된 SmartFOUP™에 있는 300mm 베어 실리콘 웨이퍼에 장착됩니다. 그런 다음 SmartFOUP는 공정 설비 N2 로 정화된 로드포트에 놓여지고, FOUP의 상대 습도를 측정하여 N2정화 기능을 모니터링합니다. RH Wafer와 정화된 SmartFOUP는 완전 자동화된 모니터링을 위해 Automation Loadport 및 분석 소프트웨어와 완벽하게 호환됩니다. Automation Loadport는 300mm 자동화된 반도체 공장 용으로 설계되었으며 다른 일상적으로 하는 모니터와 마찬가지로 생산 방식으로 RH Wafer를 사용할 수 있습니다. Automation Loadport는 AMHS/OHV 및 호스트 연결에 필요한 E84 및 기타 SEMI 표준을 비롯한 모든 SEMI 표준을 충족합니다. 분석 소프트웨어는 통계적 공정 제어 (SPC) 도구를 사용하여 상대 습도 불규칙성 또는 추세를 탐지합니다.
공정 공구 검증, 공정 공구 모니터링, 공정 공구 일치
Integral Implant i3
원래 위치 안에서 이온 주입 웨이퍼 온 (15° ~ 130°C) 측정 시스템
300mm 및 200mm 구성으로 제공되는 Integral Implant i3 원래 위치 안에서 웨이퍼 온도 측정 시스템은 이온 주입 공정을 위한 웨이퍼 온도 모니터링을 지원합니다. Integral Implant i3 무선 웨이퍼는 높은 정확도의 시간 및 공간 웨이퍼 온도 자료를 생성하므로 이온 주입 엔지니어가 이온 주입 단위 면적 당 입자 수 및 균일성에 영향을 미치는 열 변동을 특성화하고 모니터링하며 이온 주입 공정 검증 및 설비 일치를 개선할 수 있습니다.
공정 개발, 공정 인증, 공정 공구 모니터링, 공정 공구 인증, 공정 공구
이온 주입 | 15-130°C
Process Probe™ 1530/1535
현장 웨이퍼 온도 모니터링 시스템
Process Probe™ 1530 및 1535 계측 웨이퍼는 냉간벽, RTP, 스퍼터링, CVD, 플라즈마 스트리퍼와 에피택셜 반응기를 포함한 광범위한 공정 중 현장 온도를 모니터링하는 데 사용됩니다. Process Probe 1530 및 1535는 공정 사이클의 각 중요한 단계 동안 웨이퍼 온도를 실시간으로 직접 측정합니다. 이러한 포괄적인 온도 데이터를 통해 공정 엔지니어는 공정 조건을 특성화하고 미세 조정하여 공정 장비 성능, 웨이퍼 품질 및 수율을 개선할 수 있습니다.
공정 개발, 공정 인증, 공정 공구 검증, 공정 공구 일치
콜드 월 박막 공정 챔버(1530), 핫월 박막 공정 챔버(1535) | 0-1100°C
Process Probe™ 1630
현장 웨이퍼 온도 모니터링 시스템
Process Probe™ 1630 계측 웨이퍼를 사용하면 전단 대기 및 벨트 CVD 시스템과 후단 웨이퍼 솔더 범핑 리플로우 오븐에 대한 웨이퍼 온도 프로파일을 정확한 현장 특성화할 수 있습니다. Process Probe 1630을 사용하여 공정 엔지니어는 모서리 대 중심 온도 프로파일을 결정하여 히터 영역 설정 점을 조정하고 증착 온도에서의 드리프트를 측정하여 히터 및 벨트의 산화물 축적에 따른 열 전달 변화를 조정할 수 있습니다.
공정 개발, 공정 인증, 공정 공구 검증, 공정 공구 일치
박막 APCVD, 솔더 범프 리플로우 오븐 | 0-800°C
Process Probe™ 1730
현장 웨이퍼 온도 모니터링 시스템
Process Probe™ 1730 계측 웨이퍼를 사용하면 감광재 트랙 시스템, 온도 제어 웨이퍼 척 시스템, 오븐 응용 분야 및 레지스트 베이크, 폴리이미드 및 SOG 응용 분야에서 웨이퍼 온도 프로파일을 정확한 현장 특성화할 수 있습니다. Process Probe 1730은 엔지니어가 공정 조건을 특성화하고 미세 조정하여 공정 장비 성능을 개선하여 수율 향상을 지원합니다.
공정 개발, 공정 검증, 공정 공구 검증, 공정 공구 일치
리소그래피 트랙 시스템, 온도 제어 웨이퍼 척 시스템 및 오븐 | -150-300°C
Process Probe™ 1840/1850
In Situ 웨이퍼 온도 모니터링 시스템
Process Probe™ 1840 및 1850 계측 웨이퍼는 고정밀 실시간 열판 온도 측정을 제공하여, 감광재 트랙 시스템 및 웨이퍼 프로버 등의 공정을 지원합니다. Process Probe 1840 및 1850은 접촉온도 센서 또는 정밀도가 낮은 공정 모니터에 의존하지 않고 웨이퍼 온도 안전성과 산포를 직접 측정할 수 있도록 합니다. Litho 엔지니어들은 Process Probe 1840 및 1850을 활용하여 감광재 베이크 온도 산포를 미세 조정하고 특성화할 수 있으며 이를 통해 첨단 Litho 공정이 높은 수율에 도달하기 위해 필요한 온도 정확도를 충족하도록 합니다.
공정 개발, 공정 인증, 공정 툴 인증, 공정 툴 매칭
Litho 트랙 후노광 베이크(PEB), 스핀온 무반사 코팅, 백엔드 프로버 | 0-250°C (1840), 0-350°C (1850)
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