구리 배선, 다마신 공정, 도금
Quali-Line® Prima®
구리 다마신 공정을 위한 온라인 화학물 관리 시스템
Quali-Line® Prima® 2 시스템은 첨단 노드 도금 공정을 분석 및 제어합니다. 첨단 칩, 태양광, 하드 디스크 드라이브 대량 제조를 위해 개발된, 구리 배을 위한 화학물 모니터링 시스템은 기존, 초저농도, 고농도 구리 화학물을 지원하며 반도체 장치에 대한 정확한 구리 도금을 가능하게 합니다. Quali-Line Prima 2 시스템은 첨단 도금 장비와 쉽게 연결될 수 있으며, 무기 및 유기 성분을 최적의 정확도와 재현성, 그리고 빠른 분석으로 정밀 제어를 제공합니다
Quali-Line® Prima
구리 다마신 공정의 온라인 화학물 관리
Quali-Line Quanta®
코발트 증착을 위한 온라인 화학물 관리 시스템
Quali-Line Quanta® 시스템은 최적의 정밀도와 정확도로 무기 및 유기 성분의 농도를 측정하여, 첨단 노드 로직 및 메모리 장치에 대한 BEOL/MOL 공정에서의 코발트 도금액을 분석합니다. 대량 제조를 위해 개발된 Quali-Line Quanta 시스템은 코발트 도금액 분석을 지원하며 첨단 배선 공정을 위한 정확한 코발트 도금을 유도합니다. 또한, 전자동 검증 및 교정, 지능형 자가 진단, 코발트 도금 장비와의 원활한 소통 기능을 제공합니다.
첨단 코발트 배선 공정, 순환 전압 측정 스트리핑(CVS), 분광법, 전위차 적정법
QualiSurf®
습식 식각/세정 응용 분야를 위한 온라인 화학물 모니터링 시스템
QualiSurf® 화학물 모니터링 시스템은 반도체 FEOL, MOL, BEOL 공정에서 첨단 세정 및 습식 식각 응용 분야를 지원합니다. 화학 성분과 식각된 물질 또는 공정 오염 물질 (재생 화학물의 경우)에 맞게 제작되었으며, 스펙트럼, 전기 화학, 적정법을 포함한 15개 이상의 분석 방법을 기반으로 하여 정확하고 다양한 분석을 제공합니다. QualiSurf 온라인 계측 시스템은 자동 교정, 검증, 자체 분석기 상태 점검을 통해 보장되는 높은 정확도와 재현성으로 각 반도체 칩 제조 공정과 화학을 정확하게 모니터링 및 제어합니다.
SiGe 식각, 질화물 식각, 폴리 실리콘 식각, 텅스텐, 구리 또는 코발트 식각 후 잔류물 제거(PERR), 하드 마스크(HM) 제거, 식각 정지층(ESL) 제거, 하드 마스크 개방(HMO) 공정, 포토레지스트(PR) 제거 또는 재작업, 자기 조립막 (SAM), Mo/Ru 식각
QualiSurf® 500 시리즈
FEOL 선택적 실리콘 질화물(Si3N4) 식각 공정에 대한 온라인 계측, 화학물의 빠른 분석 및 재사용을 위해 단일 웨이퍼 또는 배치 공정 장비와 원활하게 연동됩니다.
QualiSurf® 900 시리즈
ppm/ppb 수준의 정확도의 정교한 용존 산소(DO) 분석을 포함하는 FEOL 선택적 실리콘(Si) 식각액에 대한 온라인 계측.
QualiSurf® 200/700/800 시리즈
MOL/BEOL(BEOL PERR, HM 및 ESL 제거)에 사용되는 재생 화학물을 안전 또는 공정 품질 문제 없이 계측하는 온라인 장비입니. SAM 및 기타 표면 개질 화학을 지원합니다.
QualiSurf® 600 시리즈
MOL/BEOL에 대한 텅스텐 식각 화학액의 성분을 정확하게 측정하고 H2O2가 존재하더라도 빠르고 정확한 모니터링을 제공하는 온라인 계측 장비입니.
The QualiLab Elite® 벤치탑 장비는 진화하는 산업 기술과 대학에서의 응용 분야를 위한 화학물 분석을 지원합니다.
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