パターン用ダイレクトイメージング

KLAのパターン用ダイレクトイメージング(DI) は、非常に薄い導体と微細配線の形成を行う高度なプリント基板およびICサブストレート製造を可能にします。 回路形成がより高密度化し、ライン幅が細くなるにつれて、これらの配線をきわめて正確に形成することが求められます。 KLAのDIシステムは、高精度・効率的な露光プロセスを確立し、高歩留まり、かつ高スループットで最高のパターン形成を提供します。

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Orbotech Corus™

最先端HDIおよびICサブストレート向け完全自動化両面ダイレクトイメージング装置(DI)

Orbotech Corus™ 8Mは、これまでのインライン化のデザインを一新する完全自動化両面ダイレクトイメージング装置です。 最先端HDI (mSAP含む)およびICサブストレート量産ライン向けのOrbotech Corusは、超微細で均一なパターンと高精度露光を提供します。 また、Double-Sided Imaging (DSI)™、Large Scan Optics (LSO)™ 、MultiWave Laser™ テクノロジーなど製造現場で実証済みの技術と新開発の技術を採用し、トータルコスト(TCO) を削減しつつ、高い生産性と歩留まりを提供します。 さらに、クローズドかつコンパクトでクリーンな設計により、環境にやさしい製造装置です。

Orbotech Infinitum™

フレキシブル基板向けロールtoロールダイレクトイメージング装置 (DI)

Orbotech Infinitum™ 10/10XTは、フレキシブル基板量産ライン向けのロールtoロールダイレクトイメージング装置です。 KLA独自のDrum Direct Imaging (DDI)™ テクノロジーにより、最適なマテリアルハンドリング、高歩留まり・高スループットでの露光を実現します。製造現場で実証されているLarge Scan Optics (LSO)™ テクノロジーとMultiWave Laser™ (マルチ・ウェーブ・レーザー) テクノロジーにより、繊細なフレキシブル基板であっても高品質・高精度な露光を可能にします。 一体型のコンパクトかつ革新的な装置構造による、高い生産性と最適な効率性を提供します。

Orbotech Nuvogo™ Fine

高品質、量産向けダイレクトイメージング装置 (DI)

Orbotech Nuvogo™ Fine 10は、最先端HDI、フレキシブル基板向けのレーザーダイレクトイメージング装置で、高品質な露光を高スループットにて提供します。 製造現場で実証されているLarge Scan Optics (LSO)™ テクノロジーと独自のMultiWave Laser™ テクノロジーにより、深い焦点深度を持ち凹凸基板であっても均一なパターンを形成し、かつ幅広いレジストに対応します。Orbotech Nuvogo Fineシリーズは、レジストレーションおよびスケーリング機能を進化させ、また革新的な2段テーブル搬送メカニズムと素早いセットアップが可能で、装置稼働時間を最大限に活用することができるため、基板ごとの露光コストを削減することが出来ます。

Orbotech Nuvogo™

量産向けダイレクトイメージング装置 (DI)

Orbotech Nuvogo™シリーズは、ほぼ全てのレジストに対して高品質な露光を可能にする量産用ダイレクトイメージング装置です。 製造現場で実証されているKLAのLarge Scan Optics (LSO)™ テクノロジーにより、HDI基板、フレキシブル基板、高多層基板に対し、高品質な露光を高スループットで提供します。

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